湿电子化学品纯化技术（G5规格）
1、需求提出背景：集成电路制造等高端领域快速发展，芯片制程线宽不断缩小，对湿电子化学品的纯度、透明度、化学稳定性等要求达到极致，G5规格能满足高端半导体制造对金属杂质及颗粒径的极严要求。
2、主要应用领域方向：主要用于集成电路和分立器件制造中晶圆的制程，包括晶圆加工前的硅片处理、后端的封装测试环节等，还用于精密电子元器件的封装材料、高性能光学镜片、高端显示器面板的制造。
3、技术难点：
超高纯度要求：需将金属杂质含量降低至极低水平，如ppb甚至ppt级，去除痕量有机物和颗粒杂质，对纯化工艺和设备要求极高。
稳定生产控制：要保证在大规模生产中产品质量稳定，控制温度、压力、流量等参数，防止批次间差异。
检测技术挑战：需配备先进精密的检测仪器和方法，对极低含量杂质进行准确快速检测。
4、主要技术指标
纯度：金属杂质含量需达到极低水平，通常要求单项金属杂质含量小于1ppt（10⁻¹²），总金属杂质含量小于10ppt。阴离子杂质含量也需严格控制，如氯离子、硫酸根离子等，一般控制在1-10ppb（10⁻⁹）级别。
颗粒度：大于0.5μm的颗粒数应小于1个/mL，甚至部分高端应用要求大于0.2μm的颗粒数都极低。
电阻率：在25℃时，电阻率需达到18.2MΩ·cm，接近理论纯水的电阻率，以保证极低的离子含量。
成本有关要求：由于其高纯度的制备难度，生产设备昂贵，如高精度的过滤设备、超纯的原材料，导致生产成本较高。在满足纯度和颗粒度等指标前提下，通过优化生产工艺、提高设备利用率、规模化生产等方式降低成本，一般期望在保持品质稳定的同时，单位成本每年有5-10%的下降空间。
5、现有基础：公司是从事高新技术精细化工产品生产的企业，现有产品的生产规模、技术工艺、产品质量和环保设施等在同行业中居于领先地位。是阿克苏诺贝尔、PPG工业集团、巴斯夫、立邦涂料、帝斯曼和花王等国际著名公司的原材料供应商。芳烃溶剂年生产能力达25万吨、醇醚溶剂年生产能力达30万吨、涂料树脂年生产能力2万吨，已形成丙二醇醚及醋酸酯、乙二醇醚及醋酸酯、高沸点芳烃溶剂、精细化学品、涂料树脂五大系列。丙二醇醚溶剂、乙二醇醚溶剂、高沸点芳烃溶剂先后被列入国家级火炬计划，高纯度均四甲苯被评为国家级新产品，丙二醇醚被国家经贸委评为“八五”国家技术创新优秀项目奖，“星聚河”商标被认定为中国驰名商标